エチル2-オキソ-2-(チオフェン-2-イル)アセテートCAS4075-58-5

チオフェンは、その高い安定性を反映して、硫黄源と炭化水素、特に不飽和炭化水素が関与する多くの反応から生成されます。マイヤーによるチオフェンの最初の合成は、彼が発見したのと同じ年に報告されており、アセチレンと元素状硫黄が含まれています。チオフェンは古典的に、Paal-Knorr チオフェン合成など、1,4- ジケトン、ジエステル、またはジカルボキシレートと P4S10 などのスルフィド化試薬との反応によって製造されます。特殊なチオフェンは、ローソン試薬を硫化剤として使用するか、元素硫黄の存在下で 2 つのエステルを縮合させるゲバルト反応を介して同様に合成できます。別の方法は、ヴォルハルト・エルドマン環化です。

チオフェンは、世界中で年間約 2,000 トンという控えめな規模で生産されています。製造には、硫黄源 (通常は二硫化炭素) と C-4 源 (通常はブタノール) の気相反応が含まれます。これらの試薬は、500 ～ 550 度で酸化物触媒と接触します。

チオフェン-2-グリオキシル酸エチル（4075-58-5）は、-2-チオフェングリオキシル酸エチルとも呼ばれます。 α-オキソチオフェン-2-酢酸エチル;チオフェン-2-グリオキシル酸エチルエステル;エチル2-オキソ-2-(2-チエニル)アセテート。危険なので、応急処置などを知っておく必要があります。たとえば、皮膚に付着した場合は、まず皮膚を洗い流してください。直ちに多量の水で少なくとも 15 分間、汚染された衣類を脱いでください。次に、靴を手に入れて医療援助を受けてください。または目の場合: 時々上まぶたおよび下まぶたを持ち上げながら、少なくとも 15 分間多量の水で目を洗い流してください。その後、すぐに医師の診察を受けてください。吸入している間: 曝露から離れ、直ちに新鮮な空気の場所に移動してください。その間は人工呼吸を行ってください。呼吸していない。呼吸が困難な場合は、酸素を与えてください。そしてすぐに医療援助を受けてください。その後、製品を飲み込んだ場合は、水で口をすすぎ、すぐに医師の援助を受けてください。医師への注意事項: 対症療法的かつ対症的に治療してください。

さらに、チオフェン-2-グリオキシル酸エチル (4075-58-5) は、通常の温度および常圧条件下では安定です。強力な酸化剤、発火源、強酸、強塩基との互換性がありません。また、有害な分解生成物（刺激性および有毒なフュームおよびガス、二酸化炭素、一酸化炭素）に分解されるのを防ぎます。

ホスホン酸誘導体は、エネルギー貯蔵および触媒作用に応用されています。これらは、イオン交換、エナンチオ選択的インターカレーション反応、および電気活性特性を示す薄膜の自己集合にも使用されています。さらに、ホスホン酸誘導体をベースとした高分子電解質膜も開発されており、温度や腐食、さらにはフリーラジカルによる攻撃に対してかなりの耐性を示すことが示されています。

ホスホン酸誘導体も、より根本的な観点から見て興味深い化合物です。実際、ヒドロキシル基の本質的な立体構造の柔軟性と、アクセプターまたはドナーの両方として分子内および/または分子間の水素結合型相互作用に参加する能力により、通常は興味深い分子および超分子構造が形成されます。これらは、ホスホン酸部分に結合した置換基が研究が困難な構造特性（例えば、特に立体構造の柔軟性、π電子の非局在化、水素結合形成能力など）を有する場合に強化される。

新しいホスホン酸（2-オキソ-2-（チオフェン-2-エチル）エチル）ホスホン酸（OTEPA; スキーム 1）の合成が、その構造的および分光学的特性評価とともに報告されています。分子レベルおよび結晶相で。 OTEPA は単純なホスホン酸誘導体であり、かなりの数の配座異性体 (配座異性体を生じる可能性のある 5 つの異なる内部回転度を持っています) と、さまざまな種類の分子内/分子間 H 型相互作用を示す構造特性に適合します [5 つを表示します]電気陰性中心に加えて、H 結合アクセプター (電子供与体) として機能する非局在化した環 π 系と、H 結合ドナーとして機能する 2 つの OH 基]。

この記事の主な目的は、化合物の単離された分子および/または結晶相に存在する主要な分子内および分子間相互作用のさまざまな重要性を明らかにすることです。これらのデータは、ホスホン酸部分の構造的特徴と特性に関する利用可能な知識を向上させるのに関連しています。 OTEPA 分子の立体配座空間が理論的に研究され、最も安定な配座異性体が構造的および分光学的に特徴付けられました。配座異性体の相対的な安定性は、化合物の構造的特徴に基づいて説明されます。ホスホン酸フラグメントの OH 基の 1 つと置換基のカルボニル酸素原子の間に確立される分子内 H 結合が、配座異性体の主要な分子内相互作用の原因となります。化合物の最低エネルギー配座異性体の安定化。

非常に興味深いことに、カルボニル酸素原子とチオフェン環の硫黄原子の間の O⋯S 接触（これは他の分子系で以前に見られた N⋯S 型接触に似ています）も、分子内相互作用の決定において重要な分子内相互作用であることが判明しました。 OTEPA の 2 つの最低エネルギー配座異性体の安定性。一方、結晶では、単離された OTEPA 分子の最低エネルギー配座異性体を安定化させる分子内水素結合が、隣接する分子と確立された分子間水素結合に置き換えられるため、結晶相で選択された配座はより高エネルギーの構造になります。孤立している間（最も安定な配座異性体のエネルギーよりも 13 kJ mol−1 以上高いエネルギー）。 OTEPA は、かなりの構造再構成を必要とする結晶化時に立体配座選択を示す化合物の興味深い例です。